Näomask SKIN1004 Madagascar Centella Watergel Sheet Ampoule Mask

SKIN1004 Madagascar Centella Watergel Sheet Ampoule Mask värskendab, pehmendab, niisutab ja rahustab hetkega ärritunud ja kahjustatud nahka, käivitades taastumisprotsessi ja vähendades punetust.

Mask tagab intensiivse niisutuse, kõrvaldab kuivuse, ketenduse ja ebamugava kiskuva tunde, ennetab niiskuskaotust ning muudab naha pehmemaks ja siledamaks.

Iga millimeeter õrnast tencelist ja bambusest valmistatud kangast on immutatud kontsentreeritud ampull-essentsiga, mis tagab toimeainete sügava imendumise ja takistab niiskuse aurustumist.

Kangas on biolagunev ja mugavalt näole sobituv — ei libise ega kortsu kasutamise ajal. Mask pakub meeldivat jahutust ja värskendavat tunnet.

Koostis:
51% Madagaskarilt pärit Aasia vesinaba (centella asiatica) ekstrakti, mis sisaldab 7 korda rohkem aktiivseid komponente kui teised centella liigid. Centella rahustab ja pehmendab nahka, tugevdab kapillaaride seinu ning aitab vähendada punetust ja nähtavat kapillaarvõrgustikku. See on rikas asiatikosiidi poolest – toimeaine, mis reguleerib rasunäärmete tööd, suurendab naha elastsust ja stimuleerib kollageeni sünteesi.

Täiendavad toimeained:

• Kummeliekstrakt rahustab, pehmendab, toniseerib ja niisutab nahka, kaitstes seda väliste ärritajate eest.

• Betaiin niisutab ja kaitseb rakumembraane, takistades niiskuse aurustumist.

• 4 tüüpi hüaluroonhapet taastavad niiskustasakaalu, hoiavad vett epidermises, muudavad naha siledaks ja elastseks ning ennetavad kuivust ja ketendust.

• Arginiin – aminohape, mis normaliseerib naha niiskuse- ja lipiiditasakaalu, parandab mikrotsirkulatsiooni, soodustab kollageeni tootmist ja kiirendab taastumist.

• Piparmündileheõli on looduslik antiseptik, mis toniseerib ja värskendab nahka, ahendab kapillaare ning rahustab ärritust ja sügelust.

Sobib kõigile nahatüüpidele.

Kasutamine:
Pärast naha puhastamist ja tooniku kasutamist aseta mask näole. Hoia 10–20 minutit, eemalda ja patsuta sõrmeotstega, et ülejäänud essents imenduks nahka.