Dr.G R.E.D Blemish Quick PHA Mask on kiiretoimeline igapäevaseks kasutamiseks mõeldud lehemask, mis aitab nahka õrnalt siluda, eemaldada surnud naharakke, rahustada ärritust ning taastada naha niiskustasakaalu. Mask sisaldab PHA-hapet, 5-CICA kompleksi ja mitut tüüpi hüaluroonhapet, mistõttu sobib hästi ka tundlikule ja kergesti ärrituvale nahale.
Õhuke tselluloosist mask kinnitub tihedalt näole ning vajab toimimiseks vaid 1–5 minutit, mistõttu sobib suurepäraselt kiireks hommikuseks hoolduseks või naha ettevalmistamiseks enne meiki. Toode on läbinud nahaärrituse testi.
Peamised toimeained
- PHA (glükonolaktoon) – õrnalt kooriv hape, mis aitab eemaldada surnud naharakke, siluda naha tekstuuri ja muuta jume kirkamaks.
- 5-CICA kompleks – sisaldab Centella asiatica ekstrakti, asiatikosiidi, madekassiinhapet, asiaathapet ja madekassosiidi; aitab rahustada tundlikku ja ärritunud nahka.
- Hüaluroonhappe kompleks – sisaldab mitut erinevat hüaluroonhappe vormi, mis aitavad nahka intensiivselt niisutada ja vähendada kuivusest tingitud ebamugavust.
- Pantenool – rahustab ja toetab naha kaitsebarjääri.
- Allantoiin – aitab vähendada ärritust ning muudab naha pehmemaks.
- Dipotassium Glycyrrhizate – lagritsajuure derivaat, mis aitab rahustada punetavat ja tundlikku nahka.
Sobib kõikidele nahatüüpidele.
Kasutamine
Võta kaasasolevate pintsettidega üks mask ning aseta see puhastatud näole. Hoia maski nahal 1–5 minutit, seejärel eemalda ning patsuta ülejäänud essents õrnalt naha sisse kuni täieliku imendumiseni.
| Aktiivsed koostiosad | |
|---|---|
| Nahatüüp | Kõigile nahatüüpidele, Kombineeritud, Kuiv, Kuperoosne, Normaalne, Probleemne/akne, Rasune, Tundlik |





























Arvustused
Tooteülevaateid veel ei ole.